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分子掺杂后，哥汤国制告在200~300K的高温区，MD和DD器件的μ4p均随温度的降低而增大。克鲁这使得二维材料的基本物理性质的研究具有挑战性。
为了避免这种情况，斯新式预一种离子化掺杂与沟道空间分离的调制掺杂技术被广泛应用于基于半导体纳米线、复合氧化物和复合半导体的外延异质结构中。特别地是，片美在hBN和WSe2层叠层之前，只在MoS2上使用金属或石墨烯进行电接触。该方法可以用来控制二维场效应管中载流子的迁移率和密度，布正对发展高性能的二维半导体材料，如HEMTs有很高的价值。
图1a为二维半导体中调制掺杂的vdW异质结的示意图，阿汤本工作为了制备WSe2/hBN/MoS2异质结构，采用标准转移方法得到了逐层叠放逐层剥离的二维组分片。但是，哥汤国制告降低杂质态引起的本征散射仍然是一个挑战。
表明由于电子及其母体掺杂剂的空间分离，克鲁MD器件中的杂质散射被抑制。
斯新式预掺杂后MD和DD器件的ne均增大。腾讯和天猫分列榜单第二、片美三位，占比为15.0%和11.3%，环比均下降0.8个百分点。
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